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 *** PE-CVD結構特點(diǎn)介紹：

1、PECVD系列真空管式高溫燒結爐如圖所示,集控制系統與爐膛為***體；2、爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用進(jìn)口高溫合金電阻絲為加熱元件；3、高純石英管橫穿于爐體中間作為的爐膛，爐管兩端用不銹鋼法蘭密封，工件式樣在管中加熱，加熱元件   與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性；4、測溫采用性能穩定，長(cháng)壽命的“K”型熱電偶，以提高控溫的***性；5、它是專(zhuān)為高等院校p科研院所及工礦企業(yè)對金屬，非金屬及其它化和物材料在氣氛或真空狀態(tài)下進(jìn)行燒   結p融化p分析而研制的專(zhuān)用設備；6、MPECVD系列真空管式爐能夠快速開(kāi)啟，快速升降溫，方便客戶(hù)對特殊材料的裝載，燒制和觀(guān)察；7、爐體的控制面板配有觸摸屏，控制電源開(kāi)關(guān)，配有電源和保險指示燈，以便隨時(shí)觀(guān)察本系統的工作狀態(tài)。*** 基本功能介紹：1、輝光放電：在系統低于100Pa啟動(dòng)射頻電源可以實(shí)現輝光放電；2、加熱：系統可以設置30段溫控程序，彩屏系統預存15條燒培曲線(xiàn)，針對不同的樣品，設置不同的預         設曲線(xiàn)，避免重復設置； 3、自動(dòng)清洗功能：樣品放入線(xiàn)圈的區域，配置好參數（PECVD功能配置），系統會(huì )自動(dòng)抽真空，并                  通入設置的氣體，自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)；4、自動(dòng)cvd功能：樣品放入線(xiàn)圈的區域，配置好參數（PECVD功能配置），系統會(huì )自動(dòng)抽真空，并通入                 設置的氣體，自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)；5、智能能模式：實(shí)現自動(dòng)清洗和cvd功能，樣品不需移出，清洗cvd功能***鍵完成，并能實(shí)現多次的循               環(huán)操作；6、通氣時(shí)間可以設定：通過(guò)界面設置通氣時(shí)間，時(shí)間到后，系統自動(dòng)停止流量計，達到節能環(huán)保的目的；7、恒定真空控制：系統設置***個(gè)真空度的數值（見(jiàn)參數“真空設定值”），配合手動(dòng)閥和真空泵，系統                 能實(shí)現真空的恒定；8、系統微正壓控制：系統設置***個(gè)正壓值（見(jiàn)參數“真空設定值”），并配置好相應的氣路，配合手動(dòng)                   放氣閥，可以實(shí)現系統微正壓的恒定；9、系統正壓保護功能：當因為誤操作或者其他原因，系統壓力超過(guò)保護值時(shí)（見(jiàn)參數“放氣閥開(kāi)啟壓力”），                    系統會(huì )自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣，保護設備；10、加熱爐膛移動(dòng)的速度可以調節。 該系列PECVD系統具有固態(tài)等離子源、分開(kāi)式反應氣體進(jìn)氣系統，動(dòng)態(tài)襯底溫控，全面控制真空系統，采用集中現場(chǎng)控制總線(xiàn)技術(shù)的“值守精靈”控制軟件，以及友好用戶(hù)操作界面來(lái)操作。適用于室溫至1400℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx,、?SiONx?a-Si薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。?*** 主要特點(diǎn)：??清洗鍍膜***氣呵成，杜絕二次污染；??上開(kāi)啟結構，式樣觀(guān)察方便；??觸屏人機對話(huà)整體性操作，安全可靠；;??產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數字化顯示。??真空系統、工作壓強、電源系統及自動(dòng)匹配、工藝氣體流量、加熱系統、運動(dòng)系統、工藝過(guò)程、系統監控及數據采集等