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氧化硅薄膜窗-X射線(xiàn)用

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-08-12 10:35

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 氧化硅薄膜窗

氧化硅薄膜窗

RISUN推出新型二氧化硅薄膜窗系列產(chǎn)品。與氮化硅相比,氧化硅更易遭受化學(xué)侵蝕,且堅固性更差。但在X-射線(xiàn)顯微鏡中,由于沒(méi)有N原子存在而倍受青睞。

 

 

氧化硅與氮化硅薄膜窗比較

相比氮化硅薄膜,氧化硅薄膜更適合用于含氮樣本。在EDS研究中,如基片薄膜含氮,則會(huì )與樣本造成混淆。

 

RISUN氧化硅薄膜窗特點(diǎn)

許多研究納米微粒,特別是含氮納米微粒的人員發(fā)現此種薄膜窗格在他們實(shí)驗中不可缺少。氣凝膠和干凝膠的基本組成微粒尺寸極小,此項研究人員也同樣會(huì )發(fā)現SPI氧化硅薄膜窗格的價(jià)值。

·         SEM應用中,薄膜背景不呈現任何結構和特點(diǎn)。

·         X射線(xiàn)顯微鏡中,裝載多個(gè)分析樣的方法。

·         無(wú)氮

 

RISUN氧化硅薄膜窗規格

  

薄膜厚度

窗口尺寸

框架尺寸

型號

50nm

1.5X1.5mm

5.0X5.0mm

RISUN

100nm

1.5X1.5mm

5.0X5.0mm

200nm

1.5X1.5mm

5.0X5.0mm

硅片厚度:200um、381um、525um;

 

 

定制系列

RISUN也可以根據用戶(hù)需求定制不同膜厚的氧化硅窗口。

本產(chǎn)品為***次性產(chǎn)品,不建議用戶(hù)重復使用;本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

 

 

應用簡(jiǎn)介

實(shí)際上,RISUN氧化硅薄膜應用范圍非常廣,但所有應用都有無(wú)氮要求(因樣本中有氮存在):

 

1. 惰性基片可用于高溫環(huán)境下,通過(guò)TEM、SEM或AFM(某些情況下)對反應進(jìn)行動(dòng)態(tài)觀(guān)察。

2. 作為耐用(如“強力”)基片,***先在TEM下,然后在SEM下對同***區域進(jìn)行“匹配”。

3. 作為耐用匹配基片,對AFM和TEM圖像進(jìn)行比較。

4. 聚焦離子束(FIB)樣本的裝載。

5.用作Ti、V、Mo等濾光器基質(zhì);用于X-射線(xiàn)光學(xué)設備中,如分光器

定制服務(wù):本公司接受特殊規格的產(chǎn)品預訂,價(jià)格從優(yōu)。


產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹



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