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高級型原子層沉積機

價(jià)  格：詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：R-200 ALD

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2648

400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人： 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話(huà)： 400-006-7520

傳   真： 400-006-7520

配送方式： 上海自提或三方快遞

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芬蘭PICOSUN™ R-200高***型 ALD

技術(shù)參數

襯底尺寸和類(lèi)型 ：
 。50-200 mm /單片
 。156 mm x 156 mm太陽(yáng)能硅片
 。3D復雜表面襯底
 。粉末與顆粒
 。Roll-to-roll , 襯底寬 70 mm
 。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品

工藝溫度： 50 - 500 °C , 可選更高溫度

基片傳送選件：
 。氣動(dòng)升降（手動(dòng)裝載）
 。預真空室安裝磁力操作機械手（Load lock ）
 。半自動(dòng)裝載，用PICOPLATFORM™200集群系統實(shí)現
 。25片晶圓盒對盒式全自動(dòng)裝載（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系統實(shí)現

前驅體 ：
 。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源、等離子體（*多4路氣體）
 。6根獨立源管線(xiàn)，*多加載12個(gè)前驅體源（加上Plasma管路，共7根獨立源管線(xiàn)）

重量 ：350 + 200 kg

尺寸 ：(W x H x D) 取決于選件

*小 ：146 cm x 146 cm x 84 cm

 ：189 cm x 206 cm x 111 cm

選件 ：集群工具，PICOFLOW™ 擴散增強器，集成橢偏儀，QCM，RGA，超高真空兼容，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設計，手套箱集成（用于惰性氣體下裝載）

驗收標準 ：標準設備驗收標準為 Al2O3工藝
   
 

產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹




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