臺式三維原子沉積系統ALD
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產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：美Arradiance 臺式三維原子沉積系統ALD
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| 美Arradiance 臺式三維原子沉積系統ALD
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| 詳細介紹 |
| 原子層沉積（Atomic layer deposition, ALD）是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的***種方法，是***種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此，它是***種真正的“納米”技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現納米***的超薄薄膜沉積。由于A(yíng)LD利用的是飽和化學(xué)吸附的特性，因此可以確保對大面積、多空、管狀、粉末或其他復雜形狀基體的高保形的均勻沉積。 | | 
| 美***Arradiance 公司的GEMStar XT系列臺式 ALD系統，在小巧的機身（78 x56 x28 cm）中集成了原子層沉積所需的所有功能，可*多容納9片8英寸基片同時(shí)沉積。GEMStar XT全系配備熱壁，結合前驅體瓶加熱，管路加熱，橫向噴頭等設計，使溫度均勻性高達99.9%，氣流對溫度影響減少到0.03%以下。高溫度穩定度的設計不僅實(shí)現在 8英寸基體上膜厚的不均勻性小于1%，而且更適合對超高長(cháng)徑比的孔徑結構等3D結構實(shí)現均勻薄膜覆蓋，可實(shí)現對高達1500：1長(cháng)徑比微納深孔內部的均勻沉積。 | | GEMStar XT 產(chǎn)品特點(diǎn)： * 300℃ 鋁合金熱壁，對流式溫度控制 * 175℃溫控150ml前驅體瓶，200℃溫控輸運支管 * 可容納多片4，6，8英寸樣品同時(shí)沉積 * 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體 * 標準CF-40接口 * 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件 * 等離子體輔助ALD插件 * 多種配件可供選擇 | GEMStar XT 產(chǎn)品型號： GEMStar XT： * 8英寸/200 mm基片沉積（4＇和6＇ 可選） * 單/雙路前驅體輸運支管， 4/8路前驅體瓶接口 * 不可升***為等離子體增強ALD GEMStar XT-R： * 8英寸(200mm)基片沉積（4＇和6＇ 可選） * 單/雙路前驅體輸運支管， 4/8路前驅體瓶和CF-40接口 * 可升***為等離子體增強ALD | |  | GEMStar XT-P： * 8英寸/200mm基片沉積（4＇和6 ＇可選） * 單/雙路前驅體輸運支管， 4/8路前驅體瓶和CF-40接口 * 裝備高性能ICP等離子發(fā)生器 13.56 MHz 的等離子源非常緊湊，只需風(fēng)冷，運行功率達300W。 * 標配3組氣流質(zhì)量控制計（MFC）控制的等離子氣源線(xiàn)，和***條MFC控制的運載氣體線(xiàn)，使難以沉積的氧化物、氮化物、金屬也可以實(shí)現均勻沉積。 | | | | | 新產(chǎn)品發(fā)布： | GEMStar NanoCUBE： * 100 mm 立方體樣品 沉積 * 單路前驅體輸運支管， 2路前驅體瓶接口 * 主要用于3D多孔材料，以及厚樣品的沉積 | | 豐富配件： | | | 多樣品托盤(pán)： * 多樣品夾具，樣品尺寸（8", 6", 4"）向下兼容。 * 多基片夾具，*多同時(shí)容納9片基片。 
| 溫控熱托盤(pán)： * 可加熱樣品托盤(pán)，溫度500℃，可實(shí)現熱盤(pán)-熱壁復合加熱方式。 
| | 粉末沉積盤(pán)： 
| 臭氧發(fā)生器： 
| | | 晶振測厚儀 | | | 前驅體加熱套 | | 粉末旋轉沉積罐模塊： 配合熱壁加熱方式，進(jìn)***步實(shí)現對微納粉末樣品全保型薄膜均勻沉積包覆。  
| | 手套箱接口： 可從側面或背面完美接入手套箱，與從底部接入手套箱不同，不占用手套箱空間。由于主機在手套箱側面，反應過(guò)程中不對手套箱有加熱效應，不影響手套箱內溫度。 | | | | | 
| | | | | 應用領(lǐng)域 |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
