PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設計與直接負載相結合。

可升***性

根據其模塊化設計，depolab200可以升***為更大的抽油機、低頻電源和額外的燃氣管道。

SENTECH控制軟件

用戶(hù)友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數窗口，食譜編輯器，數據日志，用戶(hù)管理。

Depolab 200是由SENTECH公司開(kāi)發(fā)的***種基本的等離子體增強化學(xué)沉積(PECVD)工具，它將用于均勻薄膜沉積的平行板電極設計與直接負載的經(jīng)濟有效設計相結合。從2英寸到8英寸的晶圓片和樣品片上的標準應用開(kāi)始，它可以逐步升***以適應復雜的加工。

Depolab 200的突出特點(diǎn)是系統的堅固性設計、可靠性和軟硬件的靈活性。在這個(gè)系統上開(kāi)發(fā)了不同的程序。用于高品質(zhì)氮化硅和氧化硅層沉積。Depolab 200包括帶有氣箱、控制電子、計算機、背泵和主連接箱的反應器單元。

Depolab 200等離子體增強沉積工具可在400℃以下的溫度范圍內沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特別適用于蝕刻掩膜、膜、電隔離膜等介質(zhì)薄膜的沉積。

Depolab 200由森泰克控制軟件操作，使用遠程現場(chǎng)總線(xiàn)技術(shù)和非常友好的通用用戶(hù)界面。

Depolab 200

PECVD等離子體沉積工具

打開(kāi)蓋子加載

適用于200毫米晶圓

基片溫度可達400℃

低應力薄膜可選低頻混頻

干式抽油機

占用空間小