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美國Trion反應離子刻蝕與沉積系統

價(jià)  格：詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Oracle III

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2911

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美***Trion Technology
反應式離子刻蝕系統及沉積系統

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場(chǎng)提供多種設備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統占地面積*小、成本低而著(zhù)稱(chēng)，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗室研發(fā)用系統，盡在Trion。 

批量生產(chǎn)用設備:

Oracle III反應離子刻蝕與沉積系統

Oracle III由中央真空傳輸系統(CVT)、真空盒升降機和*多四個(gè)工藝反應室構成。這些工藝反應室與中央負載鎖對接，既能夠以生產(chǎn)模式運行，也能夠作為單個(gè)系統獨立作業(yè)。 Oracle III是市場(chǎng)上*靈活的系統，既可以為實(shí)驗室環(huán)境進(jìn)行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產(chǎn)進(jìn)行配置(使用真空盒升降機進(jìn)行基片傳送)。

由于Oracle III *多可容納四個(gè)獨立的工藝室，其可以有多種不同的工藝組合，其中包括RIE/ICP (反應離子刻蝕機/電感耦合等離子)刻蝕和PECVD 沉積。多個(gè)室可以同時(shí)工作。鑒于所有工藝室均有真空負載鎖，工藝運行安全且沒(méi)有大氣污染。

 

 


產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹




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