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美國Trion 薄膜沉積系統

價(jià)  格：詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Orion III PECVD

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1018

400-006-7520
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電   話(huà)： 400-006-7520

傳   真： 400-006-7520

配送方式： 上海自提或三方快遞

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美***反應式離子刻蝕系統及沉積系統

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場(chǎng)提供多種設備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統占地面積*小、成本低而著(zhù)稱(chēng)，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗室研發(fā)用系統，盡在Trion。 

Trion提供升***及回收方案給現有客戶(hù)。


美***Trion Orion III PECVD 薄膜沉積系統

 

可以在緊湊的平臺上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。獨特的反應器設計可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統可以滿(mǎn)足實(shí)驗室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全，設施和工藝標準要求。

Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統具有許多標準的需求功能，而且是這樣***個(gè)如此合理價(jià)格，這就是為什么許多世界各地的用戶(hù)已經(jīng)作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統的選擇。

特征：

沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。

工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮

應用：

MEMS, 固態(tài)照明，失效分析，研發(fā)，試驗線(xiàn).

 


產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹




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