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美國Trion批量生產(chǎn)用設備去膠系統

價(jià)  格：詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Gemini 和Apollo

狀  態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1342

400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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電   話(huà)： 400-006-7520

傳   真： 400-006-7520

配送方式： 上海自提或三方快遞

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Trion 去膠系統Gemini 和Apollo
 
詳細介紹

美***Trion Technology
反應式離子刻蝕系統及沉積系統

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場(chǎng)提供多種設備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內以系統占地面積*小、成本低而著(zhù)稱(chēng)，且設備及工藝的可靠性和穩定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設備，到簡(jiǎn)單的實(shí)驗室研發(fā)用系統，盡在Trion。 

批量生產(chǎn)用設備去膠系統Geminiollo :

 

- 低損傷去膠系統

新式去膠系統的成本已攀升到不合理水平，但Trion已通過(guò)兩套價(jià)格低廉、緊湊的多功能系統使這***關(guān)鍵問(wèn)題得到解決：Gemini和Apollo。利用ICP(電感耦合等離子)、微波和射頻偏置功率，可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據應用要求，每套系統可以結合SST-Lightning 微波源(既可靠又沒(méi)有任何常見(jiàn)的微波調諧問(wèn)題) 或ICP 技術(shù)。

• 刻蝕速率高達6微米/分 
• 高產(chǎn)量
• 等離子損傷低 
• 自動(dòng)匹配單元
• 適用于100mm 到300mm 基片 
• 設備占地面積小
• 價(jià)格具競爭性

產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹




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