英國 Durham 無(wú)掩膜光刻機
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Microwriter ML3
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2557
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| Durham Microwriter ML3 無(wú)掩膜光刻機 |
| 詳細介紹 |
| 小型臺式無(wú)掩膜光刻系統 | 小型臺式無(wú)掩膜光刻系統是英***Durham Magneto Optics公司專(zhuān)為實(shí)驗室設計開(kāi)發(fā)，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。 | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－  | 傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專(zhuān)業(yè)供應商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設計通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設計電子掩膜板 的方法，克服了這***問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統工藝不同，激光直寫(xiě)是通過(guò)電腦控制***系列激光脈沖的開(kāi)關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 Microwriter ML 3 是***款多功能激光直寫(xiě)光刻系統，具有結構小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩膜直寫(xiě)系統的靈活性，還擁有高直寫(xiě)速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設計，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗室桌面。 | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－- | 產(chǎn)品特點(diǎn) | | | Focus Lock自動(dòng)對焦功能 Focus lock技術(shù)是利用自動(dòng)對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測，并通過(guò)Z向調整和補償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結構的形貌探測與套刻。Z向精度100 nm，方便快捷。 | | 標記物自動(dòng)識別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統自動(dòng)在顯微鏡圖像中識別光刻標記。標記物被識別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。 | 別直寫(xiě)前預檢查 軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀(guān)測基體表面，并顯示預直寫(xiě)圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調整位置、角度，直到設計圖形按要求與已有結構重合，保證直寫(xiě)準確。 | | 簡(jiǎn)單的直寫(xiě)軟件 MicroWriter 由***個(gè)簡(jiǎn)單直觀(guān)的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì )引導使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設計、基片對準和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統下運行。 | Clewin 掩模圖形設計軟件 •可以讀取多種圖形設計文件（DXF, CIF, GDSII, 等） •可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 •書(shū)寫(xiě)范圍只由基片尺寸決定
| | 產(chǎn)品參數 |
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增強型 | 旗艦型 | | 樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm | | 直寫(xiě)面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm | | 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8
（365+405nm雙光源可選） | | 直寫(xiě)分辨率 | 1μm | 1μm ａnd 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm | | 直寫(xiě)速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm | | 對準顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 ａnd x10 自動(dòng)切換 | x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換 | | 多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm | | *小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm | | 樣品臺*小步長(cháng) | 100nm | 100nm | 50nm | | 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(wú)(可升***) | 300nm | 100nm | | 樣品表面自動(dòng)對焦 | 是 | 是 | 是 | | 灰度直寫(xiě)(255***) | 是 | 是 | 是 | | 自動(dòng)晶片檢查工具 | 無(wú)(可升***) | 有 | 有 | | 溫控樣品腔室 | 無(wú) (可升***) | 無(wú) (可升***) | 有 | | 虛擬模板校準工具 | 無(wú)(可升***) | 無(wú)(可升***) | 有 | | 氣動(dòng)減震光學(xué)平臺 | 無(wú)(可升***) | 無(wú)(可升***) | 有 | | | 應用案例 |
| | 直寫(xiě)分辨率1μm | | 直寫(xiě)分辨率0.6μm | | 微電極制備 光刻膠上的圖形 Au電極（SEM） Au電極（SEM）
| 設計圖 光刻膠上的圖形 放大圖的顯微結構
   | | 微結構制備 | | 微流通道制備 | | | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－- |
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