德國Raith 電子束光刻機
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：EBPG5150
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1632
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| 德***Raith EBPG5150 電子束光刻機
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| 詳細介紹 |
| EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200***樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫(xiě)應用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
00001. 高束流密度，熱場(chǎng)發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換 00002. 155mm的平臺 00003. *小曝光特征尺寸小于8nm 00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器 00005. 在所有KVs加速電壓下，可連續改變的寫(xiě)場(chǎng)大小，可以到1mm 00006. GUI人機交互界面友好，簡(jiǎn)潔易用，適用于多用戶(hù)環(huán)境 00007. 多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求 可選的系統增強升*** EBPG5150可以選擇不同的升***選項，以滿(mǎn)足用戶(hù)不同的技術(shù)和預算需求。讓全世界的高校等研究類(lèi)用戶(hù)也可以使用這款非常、高自動(dòng)化的電子束光刻系統。 EBPG5150 應用 ·  電子束曝光用于制作GaAs T型器件 ·  微盤(pán)諧振器 ·  開(kāi)口環(huán)諧振器 EBPG5150 產(chǎn)品詳情 | 主要應用： · 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構 · 高速電子束直寫(xiě) · 批量生產(chǎn)，如化合物半導體器件 · 防偽標識 | 電子光學(xué)柱技術(shù)： · EBPG · 電子束 · 100 kV
| 樣品臺： · 覆蓋完整6英寸硅片大小 · 標配2工位自動(dòng)化上料
(10工位可選) | |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
