| Voyager 新***代電子束光刻系統 高速且價(jià)格合理的電子束光刻機實(shí)現精確的曝光效果 對于工業(yè)界和學(xué)術(shù)界所有關(guān)注速度和高分辨的電子束曝光應用，我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專(zhuān)業(yè)電子束光刻系統。
Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性?xún)r(jià)比、新開(kāi)發(fā)的、創(chuàng )新的eWRITE體系結構。 系統的硬件和軟件被***致設計為自動(dòng)曝光操作，的高性能圖形發(fā)生器和電子光學(xué)系統優(yōu)化設計并協(xié)同***致。 系統可實(shí)現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關(guān)鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實(shí)驗室環(huán)境下，仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性，提高系統對外界環(huán)境的容忍度。 超高分辨率曝光系統 00001. 從*初設計到樣品制備完成，實(shí)現高速樣品加工，提高產(chǎn)量 00002. 智能設計：設備占地面積小，且集成環(huán)境屏蔽罩 00003. 創(chuàng )新的、未來(lái)安全型系統架構 00004. 專(zhuān)業(yè)的電子束曝光系統，可實(shí)現每小時(shí)1cm2的高速曝光，高性?xún)r(jià)比 eWrite技術(shù) Raith新推出的eWrite技術(shù)結合了專(zhuān)業(yè)電子束光刻的光學(xué)系統和創(chuàng )新的圖形發(fā)生器設計，該技術(shù)適用于研發(fā)及批量生產(chǎn)的所有工作。 VOYAGER 應用 ·  HSQ膠上制作亞7nm線(xiàn)條 ·  SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡，曝光時(shí)間為53分鐘，圖為菲涅爾透鏡中心區域 ·  PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構 ·  ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結構，曝光時(shí)間小于2小時(shí) · 高速度模式（40nA束電流下曝光160um大結構）和高分辨模式（0.4nA束電流下曝光10nm細小結構）自動(dòng)切換 ·  ZEP520膠上制作光子晶體波導結構 VOYAGER 產(chǎn)品詳情 | 主要應用: · 高速直寫(xiě) · 衍射光學(xué)元件 · 防偽元件 · 批量加工化合物半導體器件 樣品臺: · 6“ 移動(dòng)范圍 · Z方向移動(dòng)范圍大 | | 電子槍技術(shù): · eWrite · 電子 · 50 kV 獨特直寫(xiě)模式: · traxx 長(cháng)線(xiàn)條無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式 · periodixx周期結構無(wú)寫(xiě)場(chǎng)拼接曝光模式 | | 
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