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瑞士 NanoFrazor 3D納米結構高速直寫(xiě)機

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產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36

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NanoFrazor 3D納米結構高速直寫(xiě)機 

源自IBM*新研發(fā)成果      

    NanoFrazor納米3D結構直寫(xiě)機的問(wèn)世,源于發(fā)明STMAFMIBM蘇黎世研發(fā)中心,是其在納米加工技術(shù)的*新研究成果。NanoFrazor納米3D結構直寫(xiě)儀***次將納米尺度下的3D結構直寫(xiě)工藝快速化、穩定化。
    NanoFrazor采用尖端直徑為5nm的探針,通過(guò)靜電力精確控制實(shí)現直寫(xiě)3D高精度直寫(xiě),并通過(guò)懸臂***側的熱傳感器實(shí)現實(shí)時(shí)的形貌探測。相對于其他制備技術(shù)如電子束曝光/光刻技術(shù)(EBL), 聚焦離子束刻蝕(FIB)有以下特點(diǎn):
   ■   3D納米直寫(xiě)能力
         高直寫(xiě)精度 (XY: 10nm, Z: 1nm)
         高速直寫(xiě) 20 mm/s 與EBL媲美 
   ■   無(wú)需顯影,實(shí)時(shí)觀(guān)察直寫(xiě)效果
         形貌感知靈敏度0.1nm
         樣品無(wú)需標記識別,多結構套刻,對準精度 5nm 
   ■   無(wú)臨近效應
         高分辨,高密度納米結構
   ■   無(wú)電子/離子損傷
         高性能二維材料器件
   ■   區域熱加工和化學(xué)反應
         多元化納米結構改性
   ■   大樣品臺
 
         100mm X 100mm
 
 新產(chǎn)品發(fā)布:NEW??!  NanoFrazor Scholar --小面積直寫(xiě)
     ■   3D納米直寫(xiě)能力
         高直寫(xiě)精度 (XY: 30nm, Z: 1nm)
         高速直寫(xiě) 10 mm/s 
   ■   無(wú)需顯影,實(shí)時(shí)觀(guān)察直寫(xiě)效果
         形貌感知靈敏度0.1nm
         樣品無(wú)需標記識別,多結構套刻,對準精度 10 nm 
   ■   無(wú)臨近效應
         高分辨,高密度納米結構
   ■   無(wú)電子/離子損傷
         高性能二維材料器件
   ■   區域熱加工和化學(xué)反應
         多元化納米結構改性
   ■   小樣品臺
         30mm X 30mm
 
 
    該技術(shù)自問(wèn)世以來(lái)已經(jīng)多次刷新了世界上*小3D立體結構的尺寸,創(chuàng )造了世界上*小的馬特洪峰模型,*小立體世界地圖,*小刊物封面等世界記錄。
 
  

 
獨特的直寫(xiě)與反饋流程  
 

PPA(聚苯二醛直寫(xiě)膠涂敷在樣品表面。

背熱式直寫(xiě)探針,微區電阻式加熱針尖。與針尖接近的PPA受熱瞬間分解,周?chē)糠钟捎?/span>PPA熱導率低而不受影響。

熱針震動(dòng)模式直寫(xiě),直寫(xiě)時(shí)探針加熱,每次下針?lè )仁莒o電力控制,垂直精度 1 nm,從而寫(xiě)出3D圖形。

冷針接觸模式掃描,回程掃描時(shí)探針冷卻,由側壁的熱感應器探測樣品高度變化(精度0.1nm), 獲得樣品形貌。反饋數據修正下***行直寫(xiě)。
 

 
獨有的直寫(xiě)針尖設計
    
    普通的AFM針尖無(wú)法滿(mǎn)足上述NanoFrazor直寫(xiě)流程的需求,因此NanoFrazor所用針尖是由IBM專(zhuān)門(mén)研發(fā)設計的。該針尖具有兩個(gè)電阻加熱區域,針尖上方的加熱區域可以加熱到1000oC。 第二處加熱區域作為熱導率傳感器位于側臂處,其能感知針尖與樣品距離的變化,精度高達0.1 nm。因此在每行直寫(xiě)進(jìn)程結束后的回掃結構時(shí),并不是通過(guò)針尖 起伏反饋形貌信息,而是通過(guò)熱導率傳感器感應形貌變化,從而實(shí)現了比AFM快1000余倍的掃描速度,同避免了針尖的快速磨損消耗。
 

 
NanoFrazor技術(shù)特點(diǎn)
   

 

其他功能

● 納米顆粒有序定位排列

● 納米局部化學(xué)反應誘導

● 表面化學(xué)圖案、結構生成
納米顆粒有序定位排列 
 氧化石墨烯的定位還原
  
 

圖形轉移

    通過(guò)NanoFrazor3D納米結構直寫(xiě)機獲得的納米圖形結構,可以通過(guò)傳統成熟的工藝技術(shù),如干法刻蝕,電鍍、注射成型法等進(jìn)行圖形轉移。
 
  
 
 應用領(lǐng)域      

快速原型設計開(kāi)發(fā)

● 衍射透鏡,全息圖

● 非球面微透鏡陣列

● 波導纖維、光子晶體

 MEMS/NEMS

● 表面等離子激元,超材料

● 納米磁學(xué)

● 納米電子器件

● 生物細胞研究

● 納米流體控制

● 反物質(zhì)物理學(xué)
 

微納結構

● 防偽標識

● DFB 激光、

● ASICs 的關(guān)鍵部位加工

模板加工

● 光掩模板

● 納米壓印印章

● 注射成型模具

 


 
  

 


 

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