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德***Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統 

 

科研/生產(chǎn)兼用 

簡(jiǎn)介： 

PhableR 100 紫外光刻機是***套低成本的光學(xué)曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類(lèi)似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù)，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線(xiàn)性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點(diǎn)：  · 高效的大面積亞微米-納米圖形化設備 · 操作簡(jiǎn)單、工作穩定，兼容科研及批量生產(chǎn) · 納米周期性圖案解決方案 優(yōu)勢： · 大面積圖形化設備：適用4、6、8寸襯底 · 高曝光效率：非步進(jìn)式曝光，無(wú)拼接，單次全場(chǎng)曝光實(shí)現整片圖形化 · 高精度：光學(xué)衍射自成像原理，突破傳統曝光精度極限 · 非接觸式曝光 · 設備沒(méi)有景深限制，曝光過(guò)程無(wú)需對焦 · 雙工作模式（UV375機型）：高分辨模式（周期性納米-微米結構），***般紫外光刻模式（非周期結構） · 設備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據客戶(hù)的圖形，提供工藝技術(shù)支持。

PhableR 100革新性紫外光刻機

 

 

 

技術(shù)指標： 

光源	UV375nm	DUV266nm	DUV193nm
分辨率	125nm	75nm	62nm
周期范圍	250-3000nm	150-2500nm	125-2000nm
操作方式	手動(dòng)裝片-自動(dòng)曝光
參數設置	觸摸屏
基片尺寸	4、6、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圓***光子學(xué)結構的曝光工具 

應用： 

· 圖形化藍寶石襯底（PSS）

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線(xiàn)柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）

· 光子晶體

· 磁性納米結構

· 太陽(yáng)能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術(shù)

 

 

 

 

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