通用磁控濺射鍍膜機
價(jià) 格:詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-05-31 14:57
品 牌:其他型 號:
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2383
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通用磁控濺射鍍膜機
特點(diǎn):
1、支持向上或向下的鍍膜方式;
2、的濺射靶材結構設計,實(shí)現膜厚分部的穩定可靠;
3、高速旋轉的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監控位置,實(shí)現了所見(jiàn)即所得;
4、多通道透射式監控,配合可調節膜厚修正板,實(shí)現了膜厚分布的反饋控制;
5、支持任意膜厚的控制;
6、通用的控制平臺,友好的人機界面,使客戶(hù)可以自行設置鍍膜機的所有控制參數;
7、開(kāi)放式接口,方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀;
8、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制,適用出氣量大的低溫鍍膜。
產(chǎn)品參數
通用磁控濺射鍍膜機
工藝參數:
1、真空系統
a) 極限真空度:4.0×10-5Pa
b) 抽至10Pa所用時(shí)間:Q 10 分鐘
c) 漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec
2、控制精度
a) 靶材尺寸:8寸直徑
b) 工件旋速: 20-120RPM
c) 工件尺寸:直徑900mm
d) 離子源:等離子體離子源
e) 加熱溫度:上下雙加熱控制,Z高溫度350度
f)高真空泵:DN400油擴散泵或電子泵
g)低真空泵組:機械泵+羅茨泵機組
h)冷阱:雙組Polycold
3、光學(xué)監控系統OMS
a) 波長(cháng)精度:0.2nm
b) 光強波動(dòng): 白光< 0.1%,激光< 0.02%
c) 波長(cháng)范圍: 400nm-1650nm