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通用磁控濺射鍍膜機

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-05-31 14:57

品  牌:其他型  號:

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:2383

400-006-7520
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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人: 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話(huà): 400-006-7520

傳   真: 400-006-7520

配送方式: 上海自提或三方快遞

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通用磁控濺射鍍膜機

特點(diǎn):

1、支持向上或向下的鍍膜方式;

2、的濺射靶材結構設計,實(shí)現膜厚分部的穩定可靠;

3、高速旋轉的傘具與實(shí)際鍍膜工件的監控位置,實(shí)現了所見(jiàn)即所得;

4、多通道透射式監控,配合可調節膜厚修正板,實(shí)現了膜厚分布的反饋控制;

5、支持任意膜厚的控制;

6、通用的控制平臺,友好的人機界面,使客戶(hù)可以自行設置鍍膜機的所有控制參數;

7、開(kāi)放式接口,方便安裝第三方的光學(xué)膜厚儀;

8、氣流和氣壓同時(shí)實(shí)時(shí)控制,適用出氣量大的低溫鍍膜。

  



產(chǎn)品參數

通用磁控濺射鍍膜機

工藝參數:

1、真空系統

     a) 極限真空度:4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時(shí)間:Q 10 分鐘

     c) 漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控制精度

     a) 靶材尺寸:8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸:直徑900mm

     d) 離子源:等離子體離子源

     e) 加熱溫度:上下雙加熱控制,Z高溫度350度

     f)高真空泵:DN400油擴散泵或電子泵

     g)低真空泵組:機械泵+羅茨泵機組

     h)冷阱:雙組Polycold

3、光學(xué)監控系統OMS

     a) 波長(cháng)精度:0.2nm

     b) 光強波動(dòng): 白光< 0.1%,激光< 0.02%

     c) 波長(cháng)范圍: 400nm-1650nm

 



產(chǎn)品介紹



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