微位移測量激光干涉儀ZLM800
價(jià) 格:詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 09:17
品 牌:型 號:
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2913
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產(chǎn)品功能
ZLM800微位移測量激光干涉儀——雙頻激光干涉儀,主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監測、運動(dòng)平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數控機床幾何量的測量等,*多可實(shí)現六軸聯(lián)動(dòng)。也可通過(guò)位移+偏擺+俯仰的三角關(guān)系測量檢測物體的振動(dòng)變化。
性能優(yōu)勢 技術(shù)參數
型號:ZLM800 | 使用高性能PCI或單片機式數據處理器 |
He-Ne激光平均波長(cháng): | 632.8 nm |
激光穩頻精度: | ***小時(shí)2x10-9(±0.002ppm) 壽命內2x10-8(±0.02ppm) |
系統精度(0-40℃時(shí)): | ±0.4ppm |
光束直徑: | 6mm (可選3.2mm) |
激光管突發(fā)輸出功率: | 5mW (激光等***2) |
每束光可測量的軸數: | *多6個(gè) |
線(xiàn)性測量距離: | 2m |
角度測量范圍: | ± 3.5' |
速度: | 2m/s |
加速: | 無(wú)限制 |
采樣頻率: | 內部1MHz,外部40MHz |
預熱時(shí)間: | 10分鐘 |
位移測量分辨率: | 1.25nm |
位移測量精度: | ±0.4ppm (μ/m) |
角度測量分辨率: | 0.003μrad |
角度測量精度: | ±0.1ppm實(shí)測值 |
數據接口: | 積分信號 32 Bit (實(shí)時(shí)時(shí)間) Dt » 20 ns |
數據分析標準: | ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA |
工作環(huán)境: | 溫度:15°C-30°C 濕度:<90%無(wú)冷凝 |
儲存環(huán)境: | 溫度:10°C-40°C 濕度:<95%無(wú)冷凝 |
應用案例
l 真正意義上的雙頻激光干涉儀,頻差為640MHz。請用戶(hù)注意“激光干涉儀”和“雙頻激光干涉儀”概念的區別,眾所周知雙頻激光干涉儀精度更好、性能更穩定。世界范圍內只有兩***雙頻激光干涉儀的生產(chǎn)商,德***耶拿爾公司是其中的******。
l 全部部件皆在德***生產(chǎn)制造,絕非為了降低成本而在第三方******進(jìn)行部件加工。光學(xué)組件全部采用蔡司光學(xué)鏡,是世界上******將的蔡司光學(xué)鏡用于激光干涉儀領(lǐng)域的產(chǎn)品制造商。
l 激光器壽命更長(cháng),可達20000小時(shí),激光穩頻精度高,***小時(shí)內為±0.002ppm,在產(chǎn)品壽命內可達±0.02ppm。
l 干涉鏡采用差分干涉原理,系統精度更高,可達±0.4ppm。
l 計算機輔助光路調整,調整結果更準確。
l 采樣頻率更快,達1MHz,可在0.001Hz-1MHz之間進(jìn)行選擇。
l 被測物體速度16m/s(可選);采用高精度AE950 PCI數據處理器,分辨率達0.6nm(當移動(dòng)速度為1m/s時(shí),線(xiàn)性分辨率更可高達為0.1nm)。
l 無(wú)加速度限制;當光線(xiàn)微弱時(shí),性能也十分穩定。
l 信號延時(shí)<200ns;對電磁干擾不敏感。
l 對于多軸聯(lián)動(dòng)的復雜光路測量和微位移測量,ZLM800型是理想的選擇。
以下是為中***科學(xué)院某項目設計的ZLM800雙頻激光干涉儀兩個(gè)應用案例。在個(gè)案例中,用兩個(gè)3軸角度干涉儀分別監視兩個(gè)擺鏡的擺動(dòng),實(shí)時(shí)測試兩個(gè)擺鏡對應量(俯仰、偏擺和位移)的差異情況。在第二個(gè)案例中,用***個(gè)3軸角度干涉儀來(lái)測試擺鏡的鏡面擺動(dòng)情況,2個(gè)單軸位移干涉儀檢測***個(gè)兩軸位移平臺的運動(dòng)情況。
下述案例是為***內某研究所某項目設計的ZLM800測量系統。用戶(hù)預先把被測物體放置在密閉箱中,密閉箱留有觀(guān)察窗口。所需要測量的數據是被監視目標Ⅰ、被監視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量,以及這兩個(gè)目標在Z方向的相對變化量。
ZLM800部分光路圖示例

從X、Y和Z方向同時(shí)測量被測物體的位移,其中X和Y在***個(gè)水平層面上
從X、Y和Z方向同時(shí)測量被測物體的位移,其中X和Y不在***個(gè)水平層面上
在水平方向同時(shí)測量出被測物體的位移、偏擺和俯仰角度變化(上圖)
在垂直方向同時(shí)測量出被測物體的位移、偏擺和俯仰角度變化(上圖)
同時(shí)從X和Y方向測量被測物體的位移變化(上圖)
同時(shí)從X和Y方向測量運動(dòng)平臺兩個(gè)層面的位移變化(上圖)
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化(1)
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化(2)
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化(3)
資料下載
復雜光路測量的應用.pdf
系統應用簡(jiǎn)介.pdf
如果用戶(hù)有更復雜的光路需求,歡迎來(lái)電垂詢(xún)!