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美國NANOVEA三維表面形貌儀

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-01-18 19:07

品  牌:型  號:HS1000

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:1251

400-006-7520
聯(lián)系我時(shí),請說(shuō)明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的,謝謝!

上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人: 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話(huà): 400-006-7520

傳   真: 400-006-7520

配送方式: 上海自提或三方快遞

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 美***NANOVEA三維表面形貌儀HS1000型

 

  

 

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

 HS1000型三維表面形貌儀是***款高速的三維形貌儀,掃描速度可達1m/s,采用的白光共聚焦技術(shù),可實(shí)現對材料表面從納米到毫米量***的粗糙度測試,具有測量精度高,速度快,重復性好的優(yōu)點(diǎn),該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現場(chǎng)使用。
 

產(chǎn)品特性


采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米***的分辨率
測量具有非破壞性,測量速度快,精確度高
測量范圍廣,可測透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…);
尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面
不受樣品反射率的影響
不受環(huán)境光的影響
測量簡(jiǎn)單,樣品無(wú)需特殊處理

Z方向,測量范圍大:為27mm
 

主要技術(shù)參數


掃描范圍:400mm×600mm(可選600mm*600mm)
掃描步長(cháng):5nm
掃描速度:1m/s
Z方向測量范圍:27mm
方向測量分辨率:2nm

 

產(chǎn)品應用


MEMS、半導體材料、太陽(yáng)能電池、醫療工程、制藥、生物材料,光學(xué)元件、陶瓷和材料的研發(fā)

主要用于

--生產(chǎn)現場(chǎng)三維形貌測試的理想選擇 

--高速三維表面形貌檢測

美***NANOVEA HS1000型三維表面形貌儀

 

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

 HS1000型三維表面形貌儀是***款高速的三維形貌儀,掃描速度可達1m/s,采用的白光共聚焦技術(shù),可實(shí)現對材料表面從納米到毫米量***的粗糙度測試,具有測量精度高,速度快,重復性好的優(yōu)點(diǎn),該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現場(chǎng)使用。
 

產(chǎn)品特性


采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米***的分辨率
測量具有非破壞性,測量速度快,精確度高
測量范圍廣,可測透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…);
尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面
不受樣品反射率的影響
不受環(huán)境光的影響
測量簡(jiǎn)單,樣品無(wú)需特殊處理

Z方向,測量范圍大:為27mm
 

主要技術(shù)參數


掃描范圍:400mm×600mm(可選600mm*600mm)
掃描步長(cháng):5nm
掃描速度:1m/s
Z方向測量范圍:27mm
方向測量分辨率:2nm
產(chǎn)品應用
MEMS、半導體材料、太陽(yáng)能電池、醫療工程、制藥、生物材料,光學(xué)元件、陶瓷和材料的研發(fā)

 

主要用于

--生產(chǎn)現場(chǎng)三維形貌測試的理想選擇 

--高速三維表面形貌檢測

 


產(chǎn)品參數


產(chǎn)品介紹




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