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蔡司高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SIGMA 500

價(jià)  格:詢(xún)價(jià)

產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-01-18 15:21

品  牌:型  號:SIGMA 500

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:2209

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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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配送方式: 上海自提或三方快遞

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詳細描述:

 


品牌:卡爾?蔡司

 型號:SIGMA 500

制造商:德***卡爾蔡司公司

 經(jīng)銷(xiāo)商:歐波同有限公司




【品牌故事】 
    
世界光學(xué)品牌,可見(jiàn)光及電子光學(xué)的領(lǐng)導企業(yè)----德***蔡司公司始創(chuàng )于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO(里奧),更早叫Cambridge(劍橋),積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗,ZEISS電子束技術(shù)在世界上創(chuàng )造了數個(gè):

    臺靜電式透射電鏡 (1949
      
臺商業(yè)化掃描電鏡 (1965
      
臺數字化掃描電鏡(1985
      
臺場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡(1990
      
臺帶有成像濾波器的透射電鏡 (1992
      
臺具有Koehler照明的 200kV 場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003
      
臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場(chǎng)發(fā)射透射電鏡(2003)

CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的設計融合歐洲至上制造工藝造就了該品牌在光電子領(lǐng)域無(wú)可撼動(dòng)的***地位。自成立至今,***直延續不斷創(chuàng )新的傳統,公司擁有電鏡制造*核心的專(zhuān)有技術(shù),隨著(zhù)離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入、是全球為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡(FIB and SEM)、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業(yè)。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩定性已得到全世界廣大用戶(hù)的信賴(lài)與認可。作為全球電鏡標準***的CARL ZEISS將***路領(lǐng)跑高端電鏡市場(chǎng)為您開(kāi)創(chuàng )探求納米科技的嶄新紀元。

【總體描述】

蔡司公司*新推出的Sigma 500場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡采用成熟的GEMINI光學(xué)系統設計,分辨率超過(guò)0.8nm,為您提供分辨率和*佳分析性能科研平臺。Sigma500專(zhuān)注于***流的EDS幾何學(xué)設計使您可以獲取精湛的分析性能。借助Sigma直觀(guān)便捷的四步工作流程可以快速成像、簡(jiǎn)化分析程序、提高工作效率。您會(huì )比以往更快、更多的獲取數據。多種探測器的選擇使Sigma500可以***的匹配您的應用程序:您可以獲取微小粒子、表面、納米結構、薄膜、涂層和多層的圖像信息。

【技術(shù)參數】
分辨率:0.8nm@30kV STEM 、0.8nm @15 kV 、1.4 nm @1kV
放大倍數:10-1,000,000×
加速電壓:調整范圍:0.02-30 kV(無(wú)需減速模式實(shí)現)
探針電流: 3pA~20nA(100nA選配)  穩定性?xún)?yōu)于 0.2%/h
低真空范圍:2-133Pa(Sigma 500VP可用)
樣品室: 358 mm(φ),270.5 mm(h)
樣品臺:5軸優(yōu)中心全自動(dòng) X=130mm Y=130mm Z=50mm T=-4°-70° R=360°
系統控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤(pán)、控制面板控制
存儲分辨率:32k x 24k pixels

【產(chǎn)品應用】   

掃描電鏡廣泛用于材料科學(xué)(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、生物學(xué)、醫學(xué)、半導體材料與器件、地質(zhì)勘探、病蟲(chóng)害的防治、災害(火災、失效分析)鑒定、刑事偵察、寶石鑒定、工業(yè)生產(chǎn)中的產(chǎn)品質(zhì)量鑒定及生產(chǎn)工藝控制等。在材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域,進(jìn)行材料的微觀(guān)形貌、組織、成分分析。各種材料的形貌組織觀(guān)察,材料斷口分析和失效分析,材料實(shí)時(shí)微區成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面掃描和線(xiàn)掃描分布測量,晶體/晶粒的相鑒定,晶粒尺寸、形狀分析,晶體、晶粒取向測量。



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