自動(dòng)化工業(yè)***原子力顯微鏡，助力高分辨率3D測量
Park Systems推出革命性的NX-3DM全自動(dòng)原子力顯微鏡系統，專(zhuān)為垂懸輪廓、高分辨率側壁成像和臨界角測量設計。借助獨有的XY軸和Z軸獨立掃描系統和傾斜式Z軸掃描器，NX-3DM成功克服精確側壁分析中的法向和喇叭形頭所帶來(lái)的挑戰。在True Non-Contact?模式下，NX-3DM可實(shí)現帶有高長(cháng)寬比尖端的柔軟光刻膠的無(wú)損測量。
前所未有的精確度
隨著(zhù)半導體越變越小，設計如今需要做到納米***，但是傳統的測量工具無(wú)法滿(mǎn)足納米***設計和制造所要求的精確度。面對這***行業(yè)測量挑戰，Park Systems取得眾多技術(shù)突破，如串擾消除，其可以實(shí)現無(wú)偽影和無(wú)損成像；全新的3D原子力顯微鏡，讓側壁和側凹特征的高分辨率成像成為可能。
前所未有的通量
受限于低通量，納米***設計無(wú)法用于生產(chǎn)質(zhì)量控制中，但原子力顯微鏡讓這***切成為可能。隨著(zhù)Park Systems發(fā)布革命性的高通量解決方案，原子力顯微鏡也得以進(jìn)入自動(dòng)化線(xiàn)上制造領(lǐng)域。這其中包括創(chuàng )新的磁性探針更換功能，成功率高達99%，高于傳統的真空技術(shù)。此外，流程和通量?jì)?yōu)化需要客戶(hù)積極配合，提供完整的原始數據。
前所未有成本效益
納米測量的精確性和高通量需要搭配高成本效益的解決方案，才能夠從研究領(lǐng)域擴展到實(shí)際生產(chǎn)應用中。面對這***成本挑戰，Park Systems帶來(lái)了工業(yè)***的原子力顯微鏡解決方案，讓自動(dòng)化測量更快、更高效，讓探針更耐久！我們放棄了慢速又昂貴的掃描電子顯微鏡，轉而采用高效、自動(dòng)化且價(jià)格實(shí)惠的3D原子力顯微鏡，進(jìn)***步降低線(xiàn)上工業(yè)制造的測量成本?，F如今，制造商需要3D信息來(lái)表現溝槽輪廓和側壁變異特征，從而準確找到新設計中的缺陷。模塊化原子力顯微鏡平臺實(shí)現快速的軟硬件更換，從而是升***更劃算，不斷優(yōu)化復雜且苛刻的生產(chǎn)質(zhì)量控制測量。此外，我們的原子力顯微鏡探針使用壽命延長(cháng)至少2倍，進(jìn)***步減少購置成本。傳統的原子力顯微鏡采用輕敲式掃描，這讓探針更易磨損，但我們的True Non-Contact?模式能夠有效地保護探針，延長(cháng)其使用壽命。
* 應用
側壁和側凹高分辨率成像
側壁和側凹臨界尺寸(CD)測量
NX-3DM的傾斜式Z軸掃描器設計讓探針能夠掃描到光刻膠的側壁和側凹結構。
? 獨有的XY軸和Z軸解耦掃描系統和傾斜式Z軸掃描器
? Z軸掃描器可在 -19到+19度和-38到+38度之間隨意擺動(dòng)
? 法向高長(cháng)寬比的探針帶來(lái)高分辨率成像
? XY軸掃描范圍可達100 μm x 100 μm
? 高強度Z軸掃描器帶來(lái)25 μm的Z軸掃描范圍
完整的側壁3D測量
高分辨率側壁粗糙度
借助超鋒利的探針尖端，NX-3DM的傾斜式Z軸掃描器可接近側壁，帶來(lái)高分辨率的側壁粗糙度細節。
? 側壁粗糙度測量
? 精確的側壁角度測量
? 垂直側壁的臨界尺寸測量
True Non-Contact?模式實(shí)現無(wú)損臨界尺寸和側壁測量
光刻膠溝槽臨界尺寸測量
獨有的True Non-Contact模式能夠線(xiàn)上無(wú)損測量小至45 nm的細節。
? 業(yè)內*小的細節線(xiàn)上測量
? 柔軟光刻膠無(wú)損測量
? 探針磨損更少，讓高質(zhì)量和高分辨率成像效果更佳持久
? 無(wú)需輕敲式成像中的參數依賴(lài)結果
Park NX-3DM的特點(diǎn)
傾斜式Z軸掃描系統
NX-3DM獨具匠心地將Z軸掃描器傾斜設計，且通過(guò)的串擾消除原子力顯微鏡平臺，XY軸與Z軸掃描器完全解耦。用戶(hù)可以?huà)呙璧酱怪眰缺谝约案鞣N角度的側凹結構。與配有喇叭形頭的系統不同，XE-3DM可使用高分辨率高長(cháng)寬比的探針。
全自動(dòng)圖形識別
借助強大的高分辨率數字CCD鏡頭和圖形識別軟件，Park NX-HDM讓全自動(dòng)圖形識別和對準成為可能。
自動(dòng)測量控制
自動(dòng)化軟件讓XE-3DM的操作不費吹灰之力。測量程序針對懸臂調諧、掃描速率、增益和點(diǎn)參數進(jìn)行優(yōu)化，為您提供多位置分析。
真正非接觸模式和更長(cháng)的探針使用壽命
得益于的高強度Z軸掃描系統，XE系列原子力顯微鏡讓真正非接觸模式成為可能。真正非接觸模式借助了原子間的相互吸引力，而非相互排斥力。
因此，在真正非接觸模式下，探針與樣品間的距離可以保持在幾納米，從而蓋上原子力顯微鏡的圖像質(zhì)量，保證探針尖端的鋒利度，延長(cháng)使用壽命。
行業(yè)的本底噪聲
為了檢測*小的樣品特征和成像*平的表面，Park推出行業(yè)本底噪聲（< 0.5?）的顯微鏡。本底噪聲是在“零掃描”情況下確定的。由于懸臂與樣品表面接觸，因此系統噪聲是在如下條件下單點(diǎn)測量：
? 掃描范圍為0 nm x 0 nm，探針停留在***個(gè)點(diǎn)
? 0.5增益，接觸模式
? 256 x 256像素
* 選項
高通量自動(dòng)化
自動(dòng)探針更換(ATX)
借助自動(dòng)探針更換功能，自動(dòng)測量程序能夠無(wú)縫銜接。該系統會(huì )根據參考圖形測量數據，自動(dòng)校正懸臂的位置和優(yōu)化測量設定。創(chuàng )新的磁性探針更換功能，成功率高達99%，高于傳統的真空技術(shù)。
自動(dòng)晶片裝卸器(EFEM或FOUP)
您可以在XE-3DM中加裝自動(dòng)晶片裝卸器(EFEM或FOUP或其他)。高精度無(wú)損晶片裝卸機械臂能夠百分百保證NX-3DM用戶(hù)享受到快速且穩定的自動(dòng)化晶片測量服務(wù)。
離子化系統
NX-3DM可搭載離子化系統，以有效消除樣品的靜電電荷。由于系統隨時(shí)可生產(chǎn)和位置正離子和負離子之間的理想平衡，便可以穩定地離子化帶電物體，且不會(huì )污染周邊區域。它也可以消除樣品處理過(guò)程中意外生成的靜電電荷。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
