毫無(wú)爭議的*佳原子力顯微鏡-自動(dòng)缺陷檢查和表面粗糙度測量
更高的通量，自動(dòng)的缺陷檢查
對于媒介和基體領(lǐng)域的工程師而言，識別納米***缺陷是***個(gè)非常耗時(shí)的工作。Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可借助數量***實(shí)現自動(dòng)缺陷識別、掃描和分析，從而加速缺陷檢查過(guò)程。Park NX-HDM可與眾多的光學(xué)檢查工具直接連接，這意味著(zhù)自動(dòng)缺點(diǎn)檢查通量大幅提高。
次埃米表面粗糙度測量
行業(yè)對于超平媒介和基體的要求越來(lái)越高，從而滿(mǎn)足體積不斷減小的設備需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測量功能。憑借著(zhù)行業(yè)的本底噪聲和獨特的True Non-Contact?技術(shù)，Park NX-HDM毫無(wú)疑問(wèn)是市面上表面粗糙度測量*精確的原子力顯微鏡。
* 應用
- 媒介和基體自動(dòng)缺陷檢查
更高的通量，自動(dòng)的缺陷檢查
NX-HDM的自動(dòng)缺陷檢查功能(Park ADR)可加速和改良識別、掃描和分析媒介和基體缺陷的流程。借助光學(xué)檢查工具提供的缺陷位置圖，Park ADR可自動(dòng)定位這些位置并進(jìn)行成像（分兩步）：
（1）縮小掃描成像，以準確定位缺陷。
（2）放大掃描成像，以獲取缺陷的細節。在真實(shí)缺陷測試中，我們可以看到相比于傳統的方法，該自動(dòng)功能可將缺陷檢查通量提高到10倍。
自動(dòng)搜尋式掃描和放大掃描
經(jīng)過(guò)優(yōu)化的掃描參數讓兩步式掃描更為快速：
（1）快速的低分辨率搜尋式掃描，以準確定位缺陷。
（2）高分辨率的放大掃描，以獲取缺陷的細節。掃描尺寸和掃描速度參數可調節，從而滿(mǎn)足用戶(hù)需求。
缺陷坐標圖自動(dòng)傳入和映射至原子力顯微鏡
借助獨有的映射算法，從自動(dòng)光學(xué)檢測(APO)工具中獲取的缺陷坐標圖可準確地傳入和映射至Park NX-HDM。該技術(shù)讓全自動(dòng)高通量缺陷成像成為可能。
光學(xué)檢測工具的缺陷坐標圖
- 精確的次埃米表面粗糙度測量
次埃米表面粗糙度測量
行業(yè)對于超平媒介和基體的要求越來(lái)越高，從而滿(mǎn)足體積不斷減小的設備需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測量功能。憑借著(zhù)行業(yè)的本底噪聲和獨特的True Non-Contact?技術(shù)，Park NX-HDM毫無(wú)疑問(wèn)是市面上表面粗糙度測量*精確的原子力顯微鏡。
* 技術(shù)特點(diǎn)
全自動(dòng)圖形識別
借助強大的高分辨率數字CCD鏡頭和圖形識別軟件，Park NX-HDM讓全自動(dòng)圖形識別和對準成為可能。
自動(dòng)測量控制
自動(dòng)化軟件讓NX-HDM的操作不費吹灰之力。測量程序針對懸臂調諧、掃描速率、增益和點(diǎn)參數進(jìn)行優(yōu)化，為您提供多位置分析。
自動(dòng)化軟件會(huì )按照測量文件中預設的程序進(jìn)行樣品測量。Park的用戶(hù)友好型軟件界面讓用戶(hù)可靈活執行全系統功能。創(chuàng )建新測量文件只需要10分鐘左右的時(shí)間，而修改現有的測量文件則需要不到5分鐘的時(shí)間。
Park NX-HDM具有：
?自動(dòng)、半自動(dòng)和手動(dòng)模式
?各自動(dòng)程序的可編輯測量方法
?測量過(guò)程實(shí)時(shí)監測
?自動(dòng)分析所獲取的測量數據
二維柔性導引掃描器，超大的100 μm x 100 μm掃描范圍
XY軸掃描器含有對稱(chēng)的二維柔性和高強度壓電疊堆，可在保持平面外運動(dòng)*少的情況下，實(shí)現高正交運動(dòng)以及納米***樣品掃描下的高響應度。
閉環(huán)式XY軸掃描器帶雙軸伺服系統
XY軸掃描器的各軸上配有兩個(gè)對稱(chēng)的低噪聲位置感應器，得以在的掃描范圍和樣品尺寸下保持高正交掃描。雙感應器能夠修正和補償單感應器引起的非線(xiàn)性和非平面位置誤差。
高速Z軸掃描器，掃描范圍達15 μm
借助高強度壓電疊堆和柔性結構，標準Z軸掃描器的共振頻率高達9 kHz以上（***般為10.5 kHz）且探針的Z軸移動(dòng)速率不低于48 mm/秒，讓信息反饋更為準確。Z軸掃描范圍可從標準的15 μm擴展至40μm（可選購的遠距離Z軸掃描器）。
低噪聲XYZ軸位置傳感器
行業(yè)的低噪聲Z軸探測器替代Z電壓，作為樣貌信號。此外，低噪聲XY閉環(huán)掃描可將正向掃描和反向掃描間隙降至掃描范圍的0.15%以下。
行業(yè)的本底噪聲
為了檢測*小的樣品特征和成像*平的表面，Park推出行業(yè)本底噪聲（< 0.5?）的顯微鏡。本底噪聲是在“零掃描”情況下確定的。當懸臂與樣品表面接觸時(shí)，在如下情況下測量系統噪聲：
?0 nm x 0 nm掃描范圍，停在***個(gè)點(diǎn)
?0.5增益，接觸模式
?256 x 256像素
離子化系統
離子化系統可有效地消除靜電電荷。由于系統隨時(shí)可生產(chǎn)和位置正離子和負離子之間的理想平衡，便可以穩定地離子化帶電物體，且不會(huì )污染周邊區域。它也可以消除樣品處理過(guò)程中意外生成的靜電電荷。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
