Park XE7
創(chuàng )新研究的經(jīng)濟之選
Park XE7配有Park Systems的所有技術(shù)，而且價(jià)格十分親民。XE7在細節的設計上也相當用心，是幫助您準確且不超預算地完成研究的理想之選。
無(wú)與倫比的高性能
在同***產(chǎn)品中，Park XE7能夠帶來(lái)納米***分辨率的測量效果。得益于獨特的原子力顯微鏡架構，即獨立的XY軸和Z軸柔性?huà)呙杵?，XE7能夠實(shí)現平滑、正交且線(xiàn)性的掃描測量，從而精確成像和測量樣品的特征。此外，Park所獨有的True Non-Contact?模式還能為您帶來(lái)前所未有的圖像效果，探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會(huì )受影響。
滿(mǎn)足當前和未來(lái)需求
在Park XE7的幫助下，現在與未來(lái)皆在您的掌控中。Park XE7帶有業(yè)內*全面的測量模式。這些模式不僅能滿(mǎn)足您目前的需求，也考慮到未來(lái)不斷變化的需求。再者，XE7具有市場(chǎng)上*為開(kāi)放性的設計，允許您整合其他附件和儀器，從而滿(mǎn)足您特殊的研究需求。
易于使用和高生產(chǎn)率
Park XE7擁有簡(jiǎn)潔的圖形用戶(hù)界面和自動(dòng)化工具，即便是初學(xué)者也可以快速地完成對樣品的掃描。無(wú)論是預準直探針、簡(jiǎn)單的樣品和探針更換、輕松的激光準直、自上而下的同軸視角以及用戶(hù)友好型掃描控制和軟件處理，XE7能夠全力推動(dòng)研究效率的提高。
經(jīng)濟實(shí)惠超越了系統成本
Park XE7不僅僅是性?xún)r(jià)比的研究***原子力顯微鏡，也是使用成本的原子力顯微鏡。Park XE7中所搭載的True Non-Contact?模式讓用戶(hù)無(wú)需頻繁更換昂貴的探針尖端，并且它配有業(yè)內*多的掃描模式，兼容性極佳，讓您可隨時(shí)升***系統功能，從而延長(cháng)產(chǎn)品的使用壽命
Park XE7
滿(mǎn)足研究的創(chuàng )新功能
精確的XY方向掃描，徹底消除了交叉耦合誤差
■樣品探針和針尖的兩種獨立閉環(huán)XY和Z平板式掃描
■平板式和線(xiàn)性XY掃描，殘余彎曲誤差極小
■整個(gè)掃描范圍內的水平線(xiàn)性誤差小于2nm
■精確的高度測量
Non-ContactTM(真正非接觸TM)模式能夠延長(cháng)針尖壽命，
提供高分辨率和保護樣品。
■其Z伺服速度是壓電管基礎系統的10倍
■非接觸式可降低針尖摩損、延長(cháng)使用壽命
■成像分辨率優(yōu)于同類(lèi)原子力顯微鏡
■增強樣品兼容性，提高掃描速度
*豐富的功能拓展方案
■支持多種SPM模式
■多種可選配測量模式
■多種可選配件及更新，擴展性能優(yōu)越
*為便利的使用設計
■開(kāi)放式樣品空間，提高樣品及針尖更換效率
■預對準針尖安裝和同軸直視光路直觀(guān)地實(shí)現激光對準
■燕尾鎖方便鏡頭拆卸
Park XE7
AFM技術(shù)
無(wú)掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描
Park的串擾消除技術(shù)不僅改善了掃描器弓形彎曲的缺點(diǎn)還能夠在各種不同掃描位置，掃描速度和掃描尺寸條件下進(jìn)行平直正交的XY軸掃描。即使是*平坦的樣品也不會(huì )出現如光學(xué)平面，各種偏移掃描等曲率的背景。由此可以為您在研究中遇到的所有極具挑戰性的問(wèn)題提供高精確度的納米測量。
無(wú)耦合關(guān)系的XY和Z掃描器
Park和競爭對手*根本的區別在于掃描器的構造，Park獨特又獨立的XY軸與Z軸掃描器設計使其達到了無(wú)可比擬的高精度的納米分辨率數據。
精確的表面測量
樣品表面平直掃描!
■低殘差弓形彎曲
■無(wú)需軟件處理(原始數據)
■不受掃描位置影響也會(huì )有精確的掃描結果
真正非接觸模式TM可保護針尖鋒利度
原子力顯微鏡的針尖本身很脆弱，在掃描過(guò)程中，針尖磨損會(huì )逐漸降圖片質(zhì)量和分辨率。
測量表面軟的樣品時(shí)，針尖也會(huì )破壞樣品并生成不準確的樣品高度測量數據。
作為Park原子力顯微鏡*獨特的***種掃描模式，
真正非接觸模式TM可持續獲得高分辨率且精確的數據，同時(shí)保持針尖的完整性。
Park XE7
配備創(chuàng )新的AFM技術(shù)
■10 um x 10um掃描范圍的二維柔性導向掃描器
XY軸掃描器含有對稱(chēng)的二維柔性和高強度壓電疊堆，可在保持平面外運動(dòng)*少的情況下，實(shí)現高正交運動(dòng)以及納米***樣品掃描下的高影響度。緊湊且堅固的結構是為了低噪聲高速伺服回應而設計的。
■柔性導向的高強力Z軸掃描器
憑借著(zhù)高強度壓電疊堆和柔性結構，其可以允許掃描器以的速度縱向移動(dòng)，這是傳統原子力顯微鏡中掃描器所無(wú)法做到的。Z軸掃描范圍可從標準的12μm增至40μm(選配件，長(cháng)距離Z軸掃描器)。
■滑動(dòng)連接的SLD掃描頭
燕尾式軌道設計，輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。該設計可將鏡頭自動(dòng)鎖定至預對準的位置，同時(shí)與電路系統連接，無(wú)線(xiàn)纜操作，重復定位精度幾奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器，顯微鏡可精確成像并可在皮牛量***進(jìn)行力-距離曲線(xiàn)獲取。此外，SLD激光器830nm的波長(cháng)也消除了環(huán)境光照的干擾，讓用戶(hù)可隨意在可見(jiàn)光譜實(shí)驗中使用原子力顯微鏡。
■操作簡(jiǎn)易的樣品臺
開(kāi)放式設計可容納100mm*100mm*20mm的樣品，且可輕易從側面更換樣品和探針。
■手動(dòng)的XY軸樣品臺
在手動(dòng)X(jué)Y軸樣品臺的精確控制下，樣品的測量定位變得簡(jiǎn)單。 XY軸樣品臺的行程范圍是13mm x 13mm。
■手動(dòng)的光學(xué)對焦平臺
同軸鏡頭可手動(dòng)調焦。
以DSP為核心的電路控制系統
原子力顯微鏡的納米***信號是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的。憑借著(zhù)低噪聲設計和高速處理單元，Park XE電子控制器成功實(shí)現了True Non-ContactTM模式，這是納米***成像和精確電壓電流測量的絕佳選擇。
■高性能DSP，頻率達600MHz，處理速度高達4800MIPS
■低噪聲設計，帶來(lái)精確的電流電壓測量
■全能系統，融合各種掃描探針顯微鏡技術(shù)
■外部信號獲取模塊，獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號
■16位數字圖像
■16位數字圖像
■16位ADC/DAC，頻率為500kHz
■利用TCP/IP連接隔離電腦噪聲
Park XE7
世界上****和*容易操作的AFM
10μm x10μm掃描范圍的二維撓性導向掃描器
XY掃描器含系統二維柔性和強力壓電堆疊，全范圍正交移動(dòng)時(shí)，具有業(yè)界*小的水平線(xiàn)性誤差，并能實(shí)現精確的樣品納米***掃描。
帶高分辨率的同軸直視光路
同軸直視光路使得用戶(hù)直接俯視觀(guān)看樣品，從而很容易就能找到目標區域。高分辨率CCD具備變焦功能，移動(dòng)過(guò)程中可確保清晰的圖像質(zhì)量。
簡(jiǎn)單的探針和樣品更換
獨特的頭部設計讓您能夠輕易地從側面更換新的探針和樣品。借助安裝懸臂式探針夾頭中預先對齊的懸臂，你無(wú)需進(jìn)行繁染的激光校準工作。
簡(jiǎn)單且敏銳的激光校準
憑借著(zhù)我們的預校準懸臂架，懸臂在裝載時(shí)激光便可聚焦完畢。此外，自上而下的同軸視角讓您可以輕松地找到激光光點(diǎn)。由于激光垂直照射在懸臂上，您可以憑兩個(gè)定位旋鈕，將激光光點(diǎn)準確定位。這樣，您可以在激光準直界面中，輕易地找到激光并將其定位在PSPD上。此時(shí)，您只需要稍微調整以化信號，便可開(kāi)始獲取數據。
Park XE
適用于任何研究
標準成像
■真正的非接觸模式
■接觸模式
■間歇式(輕敵式)AFM
■橫向力模式(LFM)
■相位成像
化學(xué)性能
■功能化探針的化學(xué)力顯微鏡
■電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/電壓性能
■靜電力顯微鏡(EFM)
■動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
■壓電力顯微鏡(PFM)
■高電壓PFM
力測量
■力-距離(F-D)光譜
■力-體積成像
■熱噪聲法標定彈性系數
電性能
■導電AFM
■IV譜線(xiàn)
■掃描開(kāi)爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
■高電壓SKPM
■掃描電容顯微鏡(SCM)
■掃描電阻顯微鏡(SSRM)
■掃描隧道顯微鏡(STM)
■掃描隧道光譜(STS)
■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
磁性能
■磁力顯微鏡(MFM)
■可調外加磁場(chǎng)MFM
機械性能
■力調制顯微鏡(FMM)
■納米壓痕
■納米刻蝕
■高電壓納米刻蝕
■納米操控
■壓電力顯微鏡(PFM)
光學(xué)性能
■探針增強拉曼光譜(TERS)
■時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
熱性能
■掃描熱感顯微鏡
選項
25μmZ掃描器
■工作距離：25μm
■激光類(lèi)型：LD(650nm)orSLD(830nm)
■掃描器諧振頻率：1.7kHz
■零位掃描噪聲：0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
光學(xué)頭
■光學(xué)兼容性：上方及側面
■激光類(lèi)型：LD(650nm)orSLD(830nm)
■Z掃描范圍：12μm or 25μm
■零位掃描噪聲：0.03nm(typical),0.05nm(maximum)
■掃描器諧振頻率：3kHz(12μm XE Head),1.7kHz(25μm XE Head)
磁場(chǎng)發(fā)生器
■施加外部磁場(chǎng)，平行于樣品表面方向
■強度范圍：-300 ~+300 高斯,-1500 ~ +1500高斯
■磁場(chǎng)強度可調
■由純鐵芯和雙螺線(xiàn)管組成
夾制探手
■適用于未裝載的探針
■可以為電力顯微鏡和導電顯微鏡提供偏壓
■探針偏壓范圍：-10V to +10V
■支持所有標準模式及高***模式，掃描隧道顯微鏡、掃描電容顯微鏡及液體成像除外。
液體池
■多功能液池
注滿(mǎn)液體/氣體的開(kāi)式或閉式液池
控溫范圍：4°C to +110°C(in air), 4°C to +70°C(with liquid)
■電化學(xué)工作池
■開(kāi)放/閉式液池
液池用探手
■專(zhuān)為液體環(huán)境成像設計
■耐常見(jiàn)緩沖液及弱酸堿腐蝕
■在液體環(huán)境下實(shí)現接觸和非接觸成像
控溫臺
■制熱制冷臺(-25~180度)
■250度控溫臺
■600度0控溫臺
信號接入模塊
■使原子力顯微鏡可接入各種輸入/輸出信號
■XY及Z掃描器的掃描器驅動(dòng)信號
■XY及Z掃描器的位置信號
■垂直/水平方便的懸臂撓度信號
■樣品及懸臂的偏壓信號
■XE7的驅動(dòng)信號
■系統的輔助輸入信號
Park XE7
規格
掃描器
XY掃描器
閉環(huán)控制式單模塊柔性XY-掃描器
掃描范圍：100μm x 100μm
50μm x 50μm
10μm x 10μm
Z掃描器
柔性引導高力度掃描器
掃描范圍：12μm
25μm
光學(xué)系統
可觀(guān)察樣品和探針的直視同軸光學(xué)系統
10X物鏡(可選20X)
視場(chǎng)：480X360μm
CCD：1M像素(像素分辨率：0.4μm)
樣品尺寸
樣品尺寸：10mm
樣品高度：20mm
電路系統
高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS
圖像尺寸: 4096 x 4096像素, 16個(gè)數據圖像
信號輸入： 在500kHz取樣時(shí), 16位ADC的20個(gè)通道
信號輸出： 在500kHz取樣時(shí), 16位ADC的21個(gè)通道
同步信號 ：圖像結束, 線(xiàn)結束及像素結束TTL信號
主動(dòng)Q控制(選配)
懸臂梁彈性常數校準(選配)
CE Compliant
電源 : 120 W
信號處理模塊 (選配)
選項/模式
標準成像
真正的非接觸模式
接觸模式
間歇式(輕敲式)AFM
橫向力模式(LFM)
相位成像
化學(xué)性能
功能化探針的化學(xué)力顯微鏡
電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
介電/壓電性能
靜電力顯微鏡(EFM)
動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)
壓電力顯微鏡(PFM)
高電壓PFM
力測量
力-距離(F-D)光譜
力-體積成像
磁性能
磁力顯微鏡(MFM)
可調外加磁場(chǎng)MFM
光學(xué)性能
探針增強行拉曼光譜(TERS)
時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
電性能
導電AFM
I-V譜線(xiàn)
掃描開(kāi)爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)
高電壓SKPM
掃描電容顯微鏡(SCM)
掃描電阻顯微鏡(SSRM)
掃描隧道顯微鏡(STM)
掃描隧道光譜(STS)
時(shí)間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)
機械性能
力調制顯微鏡(FMM)
納米壓痕
納米刻蝕
納米刻蝕
納米操縱
壓電力顯微鏡(PFM)
熱性能
掃描熱感顯微鏡
樣品臺
XY臺工作范圍：13X13mm
Z臺工作范圍：29.5mm
聚焦臺工作范圍：70mm
軟件
XEP
系統控制和數據采集的專(zhuān)用軟件
實(shí)時(shí)調整反饋參數
通過(guò)外部程序(選項)進(jìn)行腳本***控制
XEI
AFM數據分析軟件
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
