英國Quorum K975X多用途高真空鍍膜儀
價(jià) 格：詢(xún)價(jià)
產(chǎn) 地：更新時(shí)間：2021-01-18 15:13
品 牌：型 號：K975x
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：1734
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儀器簡(jiǎn)介：K975X渦輪蒸鍍儀是***個(gè)多用途系統，它具有靈活性和模塊化擴展功能，以適應不同的樣品制備。它可從蒸籃和坩鍋進(jìn)行碳蒸發(fā)、金屬蒸發(fā)并且可選濺射附件。K975X可應用***系列成熟技術(shù)，包括鍍碳及TEM覆形，碳/金屬蒸發(fā)、低角度Shadowing和通過(guò)使用雙源蒸發(fā)進(jìn)行順序涂層，可選的濺射鍍膜附件能適用于各種靶材。通過(guò)使用微處理控制器，更增強了系統的靈活性，用戶(hù)很容易附加各種可選件，但是這些“缺省”都是經(jīng)過(guò)優(yōu)化操作設計，使得全自動(dòng)和手動(dòng)操作均可實(shí)現*佳操作。獨特的抽屜式樣品裝載系統使用戶(hù)方便放入各種樣品，鉸鏈式頂蓋結構很容易達到系統其它區域。渦輪分子泵安裝在系統外部，可方便安裝及更換，它的前***真空為旋轉真空泵。 整個(gè)抽氣過(guò)程為全自動(dòng)控制，達到高真空后進(jìn)行蒸發(fā)。本儀器為臺式，可方便地進(jìn)行使用控制，使用中的疏忽也不易造成損壞。K975S半導體晶圓蒸鍍儀K975S基于K975X，但是它具有特殊的裝載鎖定門(mén)，可允許放入8英寸（200mm）晶圓鍍碳，應用于FIB。優(yōu)點(diǎn)● 容易操作● 使用靈活● 可靠的碳蒸發(fā)● 方便的樣品裝載及卸載● 靈活的操作，可選擇碳及金屬蒸發(fā)源● 在排氣過(guò)程中可防止樣品損壞● 系統靈活性強● 很容易測量金屬或碳沉積膜厚技術(shù)參數：儀器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H 工作腔室：硼硅酸鹽玻璃，帶有鉸鏈式頂蓋。250mm Dia x 300mm H（樣品可達直徑200 mm即8"）安全鐘罩：聚碳酸酯，維護時(shí)工作腔室很容易移開(kāi)重量：65Kg碳槍?zhuān)焊叨瓤烧{，傾斜0-20o ，使用直徑6.15mm碳棒渦輪分子泵：100L/Second為標準配置，可選各種尺寸真空計范圍：ATM - 1x10-7mbar工作真空達到時(shí)間：15分鐘內操作真空：10-5 mbar量***（可選液氮冷阱）蒸發(fā)源（脈沖或可變控制）：四種模式可選，低電壓a.c. V, 5V, 15V,25V @ 25 amps. 7V @100 amps樣品臺：0-45o可傾斜 旋轉樣品臺（可選）：直徑60mm，傾斜0-45o，具有15rpm 到 45rpm可變速度控制Services –Argon（對可選濺射附件） - Nominal 4psi. 真空泵：No. 2 泵(2m3/Hr)，complete with Vacuum Hose & Oil Mist Filter電源：230V 50/60Hz (包含泵電流為8 Amp)；115V 50/60Hz (包含泵電流為16 Amp)注：In Circuits with Current Trips , when using Pulse for 230 v a 16amp minimum for 115 v a 32 amp minimum可選濺射附件 濺射電流：0到100mA沉積速率：0到50nm/分（Au）標準靶：57mm Au（可選Pt, Pt/Pd, Pd, Cr, Ni, Cu, Ag）定時(shí)：0到4分鐘HT安全互鎖裝置可選膜厚監測系統可選輝光放電主要特點(diǎn)：特點(diǎn)● 全自動(dòng)抽真空系統● 樣品尺寸可達140毫米見(jiàn)方或200毫米直徑● 獨特的“anti-stick”碳棒蒸發(fā)機構● 抽屜式樣品裝載系統● 可選的蒸鍍類(lèi)型，具有四種蒸發(fā)設置● 約束的或開(kāi)放的排氣控制● 可選用各種濺射靶材附件適用于***系列金屬● 可選膜厚監測系統
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
