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nanoArch P150微納3D打印機

 nanoArch P150微納3D打印機由深圳市摩方材料科技有限公司自主研發(fā)的高精密微納3D打印系統。設備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統，將需打印模型分層投影至樹(shù)脂液面，快速微立體成型，從數字模型直接加工三維復雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢，被認為是目前***具有前景的微尺度加工技術(shù)之***。

基本參數

光源：UV-LED(405nm)

打印材料：高精度硬性光敏樹(shù)脂，支持韌性樹(shù)脂、PEGDA、耐高溫樹(shù)脂、生物醫用樹(shù)脂、柔性樹(shù)脂、水凝膠、透明樹(shù)脂、低收縮樹(shù)脂、二氧化硅摻雜樹(shù)脂、二氧化皓摻雜樹(shù)脂等其他功能樹(shù)脂等

光學(xué)精度：25μm

打印層厚：10-50μm

打印尺寸：48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)

文件格式：STL

設備功率：3000W

系統外形尺寸：520㎜(L)×530㎜(W)×680㎜(H)

重量：90kg

電氣要求：100-240V AC,50/60HZ,1.5kW

應用領(lǐng)域：

可廣泛應用于生物檢測、微機械、柔性材料與器件、生物醫療工程等領(lǐng)域