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產(chǎn)品特點(diǎn)：

? 10nm空間分辨率近場(chǎng)成像和光譜；
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? 專(zhuān)利的快速成像和采譜技術(shù)，10倍于傳統的空間光譜成像；
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? 專(zhuān)利背景壓制技術(shù)和高效光學(xué)信號收集技術(shù)，確保在10nm空間分辨率下仍然保持極高的信噪比；
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? 預先校準光路，操作極其簡(jiǎn)便；
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? 模塊化設計，可拓展性強；

產(chǎn)品參數：

光學(xué)分辨率：1.5um

XY掃描范圍：80x80um

成像波段：900～2000cm-1，2235～3600cm-1

空間分辨率：10～100nm

    s-SNOM技術(shù)使用金屬鍍層的原子力（AFM）探針針尖代替傳統光纖探針來(lái)增強樣品的納米尺度區域的散射，散射信號可以在遠場(chǎng)被檢測到。而這些散射信號攜帶了樣品在金屬探針針尖下納米***區域的復雜光學(xué)性質(zhì)。具體而言，這些散射光的信息包括光的振幅和相位，通過(guò)適當的模型，這些測量可以估算出針尖下樣品納米尺度區域材料的光學(xué)常數（n，k）。在某些情況下，光學(xué)相位與波長(cháng)還提供了***個(gè)與同種材料常規吸收光譜近似的光譜信息。   

    瑞宇科技的散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡建立在基于具有***地位的納米光學(xué)表征工具原子力顯微鏡AFM的基礎之上。s-SNOM設計具有無(wú)與倫比的性能，高度集成，全面自動(dòng)化，使用靈活，為研究生產(chǎn)力和易用性設定了新的標準。

應用：

        由于瑞宇科技的散射式近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡和光譜譜圖的可靠性和可重復性，s-SNOM業(yè)已成為納米光學(xué)領(lǐng)域熱點(diǎn)研究方向的***選科研設備，廣泛適用于各種無(wú)機物和有機物，如表面等離子體、納米天線(xiàn)、2D材料（石墨烯，BN），納米結構，半導體，絕緣體，生命科學(xué)，高分子材料等，在等離基元、納米FTIR和太赫茲等眾多研究方向得到許多重要科研成果。

       
      石墨烯等離子體的s-SNOM相位和振幅圖像（上—相位圖像三維視圖；左—相位和SPP駐波線(xiàn)橫截面；右—s-SNOM振幅圖）

       
      光學(xué)近場(chǎng)顯微鏡的光譜和成像。（上—波長(cháng)相關(guān)的復雜光學(xué)性質(zhì)；下左—共振（1659cm-1）的s-SNOM相位圖像；下右—非共振（1605cm-1）的s-SNOM相位圖像）

      
      s-SNOM圖像顯示了棒狀天線(xiàn)上的偶極子散射。（上—覆蓋在形貌圖上的s-SNOM圖像；下左—AFM圖像；下右—s-SNOM圖像）

      
      紫外膜的s-SNOM測量揭示了蛋白質(zhì)在脂質(zhì)膜內的分布。（上—AFM高度圖；下左—當紅外激光源調諧到酰胺I吸收帶產(chǎn)生共振時(shí)（1667cm-1）s-SNOM相位圖像；下右—非共振時(shí)（1618cm-1）s-SNOM相位圖像）