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清潔度衰減實(shí)驗操作流程

2025-04-02 09:26:33

清潔度衰減實(shí)驗操作流程

***、實(shí)驗準備


設備與材料?


清潔度檢測設備(含萃取裝置、過(guò)濾系統、顯微鏡、天平)、烘箱、干燥器、濾膜(需預先恒重處理)?。

清洗劑(如去離子水或指定溶劑)、待測樣品(需性能穩定)?。


參數設定?


確定清洗參數:清洗壓力、噴射角度、清洗劑用量(如1L/次)?。


二、實(shí)驗步驟


樣品預處理?


將濾膜浸入清洗液后烘干(90±5℃, 30分鐘),冷卻并稱(chēng)重初始質(zhì)量(G1)?。

樣品表面無(wú)明顯污染,需符合檢測前狀態(tài)要求?。


連續萃取清洗?


***次清洗?:使用設定參數對樣品進(jìn)行清洗,收集濾液并過(guò)濾,記錄顆粒數量或重量?。

重復清洗?:同***樣品連續清洗6次,每次均更換新濾膜并記錄數據(顆粒數或重量G2)?。


數據記錄與分析?


計算每次清洗的顆粒占比:

單次顆粒數 / 總顆粒數 ≤10% 或 單次重量(G2-G1) / 總重量 ≤10%?。

若第n次數據滿(mǎn)足上述條件(通常為第3–4次),判定參數合理;否則需調整參數重新實(shí)驗?。


三、驗證與優(yōu)化

參數驗證?

通過(guò)實(shí)驗的清洗參數需重復驗證3次,確保結果***致性?。

工藝固化?

符合衰減標準(≤10%)的參數納入正式清洗工藝,用于后續生產(chǎn)檢測?。

標準衰減曲線(xiàn)圖.png


關(guān)鍵注意事項

濾膜恒重?:前后烘干條件需完全***致(溫度、時(shí)間)。

設備校準?:天平精度需達0.1mg,顯微鏡需定期校驗顆粒識別功能?。

環(huán)境控制?:實(shí)驗室溫濕度穩定,避免外部污染干擾數據?。


流程圖示例

image.png


開(kāi)始

  ↓

選擇清洗方法和參數

  ↓

準備同***件樣件

  ↓

對樣件進(jìn)行第1次清洗,記錄顆粒數量

  ↓

對樣件進(jìn)行第2次清洗,記錄顆粒數量

  ↓

...(重復清洗和記錄,直到第6次)

  ↓

計算每次清洗得到的顆粒數據與所得顆??偤偷谋戎?/p>

  ↓

判斷是否有任意***次的比值小于0.1(或10%,根據標準不同)

  ↓

是 → 清洗方法符合要求,確定清洗參數

  ↓

否 → 更改清洗方法和參數,重復實(shí)驗

  ↓

結束



以上流程綜合了ISO16232/VDA19標準的核心要求,通過(guò)多輪清洗和嚴格的數據分析確保萃取方法的有效性?。


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