YES 的DNA測序、基因組學(xué)和微流控設備解決方案
行業(yè)驅動(dòng)力
在過(guò)去二十年里,DNA 測序技術(shù)取得了驚人的發(fā)展。采用大規模并行測序技術(shù)的 “下***代測序”(NGS)使成 本降低了數百萬(wàn)倍,并大大節省了時(shí)間。如今,***個(gè)人類(lèi)基因組的測序(作為 48 個(gè)同時(shí)測序的基因組之***) 只需 44 個(gè)小時(shí)。這實(shí)際上超過(guò)了每小時(shí)***個(gè)基因組的測序速度,每個(gè)基因組的測序成本約為 1000 美元。未 來(lái)的測序應用將需要更高的吞吐量、更低的成本和更高的準確性,以滿(mǎn)足臨床需求。這些改進(jìn)將帶來(lái)新的產(chǎn) 品–可應用于醫療點(diǎn)設施和非實(shí)驗室現場(chǎng)環(huán)境。
未來(lái)的 NGS 解決方案將需要高精度、無(wú)污染的樣品制備、測序設備與工作流程中其他關(guān)鍵步驟的集成以及設 備的小型化,以實(shí)現每個(gè)基因組 100 美元的群體***基因組學(xué)目標。
這些技術(shù)使用的材料包括***次性塑料、玻璃基板和光刻蝕刻孔結構或孔。微流控芯片將變得更加重要,尤其 是在單分子技術(shù)方面。雖然單分子技術(shù)目前只占少數市場(chǎng)份額,但隨著(zhù)技術(shù)的成熟,它將需要新的材料、工 藝和設備以及設備微型化解決方案。
顧客需求
克隆擴增和測序步驟中使用的樣本制備和試劑可占測序總成本的測序總成本的 80%(不包括生物信息學(xué))。 必須盡量減少不理想的測序運行,并嚴格控制生產(chǎn)質(zhì)量。
典型的測序應用流動(dòng)池制造過(guò)程和下游應用可能包括多個(gè)步驟,如下圖所示:
流動(dòng)池制造步驟和典型基因組測序應用
要想獲得準確、可重復的 DNA 測序結果,必須要有穩健的上游制造流程。尤其是在連接 DNA 測序探針之 前,流動(dòng)池基底的清潔和表面制備是關(guān)鍵步驟。 應用形成自組裝單層膜(SAM)的專(zhuān)用薄膜涂層可實(shí)現精 確的共價(jià)探針附著(zhù)。
濕涂層制造工藝存在以下缺點(diǎn):
? 涂層試劑用量更大,成本增加
? 不均勻度更高,背景噪聲更大。因此,要獲得 "高信噪比 "數據,需要更多的克隆擴增循環(huán)。獲得 "高信噪比 "數 據。這會(huì )增加成本和儀器運行時(shí)間。
? 需要更多的測序冗余(更高的測序覆蓋深度要求和更多的重復樣本測試)。
? 材料和涂層產(chǎn)品選擇有限。
另***方面,基于 YES 等離子體的清潔工藝(用于表面清潔)和基于化學(xué)氣相沉積 (CVD) 的涂層產(chǎn)品(用于 SAM 形成)為***的基因組學(xué)公司提供了顯著(zhù)的優(yōu)勢。這些優(yōu)勢包括可預測和可調整的清洗和涂層、高通 量制造、涂層試劑用量少、表面保形處理以及z終更可預測和可靠的數據生成。所有這些優(yōu)勢都與高度可靠 的大批量生產(chǎn)密切相關(guān)。
YES 產(chǎn)品
YES 提供從實(shí)驗室系統到大批量制造 (HVM) 解決方案的各種設備,可為任何規模的客戶(hù)提供服務(wù)。我們的清 潔、涂層和固化產(chǎn)品系列具有在微米和納米尺度上增強材料、表面和界面的獨特功能。
清潔: 自動(dòng)等離子光刻膠條/溶液。
? 95% 的正常運行時(shí)間(只有 3 個(gè)活動(dòng)部件),更高的吞吐量(無(wú)噴淋頭), 占地面積約為同行同類(lèi)產(chǎn)品的 1/2。
涂層:用于硅烷分子氣相沉積,具有出色的重復性和精確性。
? 整個(gè)基底的溫度均勻性提高 3 倍,接觸角變化率提高 2 倍,應用范圍廣泛,包括 >100 種化學(xué)前體。 固化:基于真空的低溫聚合物固化。
? 循環(huán)時(shí)間縮短 ~50%,溫度均勻性提高 2 倍,應力和排氣量降低
YES 的客戶(hù)包括基因組學(xué)領(lǐng)域的行業(yè)ling導者、頂***研究機構和 業(yè)內z受尊敬的技術(shù)孵化器。YES 與這些客 戶(hù)密切合作 定制解決方案,包括工藝開(kāi)發(fā)、設備選擇和售后服務(wù)支持。售后服務(wù)支持。YES 位于硅谷的先進(jìn) 實(shí)驗室為這些工作和相關(guān)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)計劃提供支持。
(文章來(lái)源于儀器網(wǎng))