隨著(zhù)電子信息產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，中***半導體行業(yè)市場(chǎng)規模也從2017年的1315億美元增長(cháng)至2022年的1820億美元?；诎雽w產(chǎn)業(yè)***產(chǎn)化進(jìn)程不斷加快，下游晶圓廠(chǎng)也在不斷擴張，中***芯片制造商預計2024 年將新開(kāi)18座晶圓廠(chǎng)，產(chǎn)能將從760萬(wàn)片推升至860 萬(wàn)片。在半導體***產(chǎn)化趨勢下，***內晶圓廠(chǎng)的擴張也有望帶動(dòng)半導體配套設備的***產(chǎn)替代需求，將隨著(zhù)晶圓工廠(chǎng)的擴產(chǎn)持續增加。

顆粒污染影響產(chǎn)品品質(zhì)，半導體制造潔凈度要求高

根據***際半導體設備制造商協(xié)會(huì ) (SEMI) 發(fā)布的世界晶圓廠(chǎng)預測?，超過(guò)50%的半導體產(chǎn)量損失可歸因于微污染。為了減少良率損失，半導體制造廠(chǎng)必須在潔凈室中采用嚴格的污染控制策略。半導體制造工藝復雜，如何提高產(chǎn)品的成品率對于半導體企業(yè)在競爭中保持優(yōu)勢至關(guān)重要。影響半導體成品率的因素有很多，其中生產(chǎn)過(guò)程中的空氣雜質(zhì)（塵埃顆粒）是不可忽視的因素。由于高密度的集成電路的圖形特征尺寸和表面沉積層的厚度都已經(jīng)降到微米***別，更容易受到微粒的影響，這種微粒附著(zhù)在半導體表面可能會(huì )形成致命的缺陷，導致器件失效。

LSI各制造工序與潔凈室的清潔條件

四方光電塵埃粒子計數器，讓潔凈室微塵無(wú)所遁形

四方光電在線(xiàn)粒子計數器OPC-6510DS采用光學(xué)散射原理，可精確檢測并計算單位體積內空氣中不同粒徑的懸浮顆粒物的個(gè)數，具有28.3L/min大流量的氣體采樣速率，可同時(shí)輸出0.3um、0.5μm、1.0μm、5.0um、10um五個(gè)通道的顆粒數(默認單位pcs/28.3L)，廣泛應用于百***、千***、萬(wàn)***、十萬(wàn)***等潔凈室環(huán)境。

l 采用3.5寸觸摸屏，實(shí)時(shí)顯示各粒徑數量、等***以及報警信息等

l 內置四方光電的塵源智能識別模塊，高效粒子識別率，檢測精度高

l 內置超聲波流量傳感器，實(shí)現28.3L恒流采樣，數據長(cháng)期穩定性高

l 低噪音渦輪風(fēng)機采樣，連續監測穩定性好，壽命長(cháng)

l 滿(mǎn)足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準

| 滿(mǎn)足IS014644-1:2015、新版GMP、JF1190-2008、GB/T6167-2007標準

未來(lái)四方光電將繼續深耕光散射技術(shù)，不斷創(chuàng )新，為客戶(hù)提供定制化的潔凈室解決方案，幫助客戶(hù)大程度提高產(chǎn)品質(zhì)量。

(文章來(lái)源于儀器網(wǎng))