膜厚測量 | 反射式膜厚測量?jì)x

2024-05-21 09:50:26

光譜反射式膜厚、折射率測量?jì)x器是***種利用光譜反射原理來(lái)測量薄膜厚度和折射率的設備。反射測量是通過(guò)分析從單層或多層薄膜結構反射回來(lái)的光強變化，來(lái)確定薄膜的厚度。在這個(gè)過(guò)程中，入射光以垂直的角度照射到樣品表面。由于界面之間的干涉效應，反射光譜會(huì )發(fā)生變化，這些變化可以用來(lái)計算薄膜的厚度，無(wú)論是在透明、部分透明還是完全反射的基板上。

反射式膜厚測量工作原理

入射到樣品表面的光經(jīng)薄膜上下表面多次干涉后從樣品表面出射，經(jīng)過(guò)光譜儀的采集，得到出射光光強，出射光光強與入射光光強之比值即為薄膜的反射率（），此反射率表現為波長(cháng)的函數，得到反射率曲線(xiàn)。

反射式膜厚儀應用領(lǐng)域

廣泛應用于半導體制造、平板顯示、光學(xué)鍍膜、太陽(yáng)能電池等。

中，反射式膜厚測量?jì)x可以用于測量晶圓上的薄膜厚度，如二氧化硅、氮化硅等，以確保半導體器件的性能和可靠性。

中，反射式膜厚測量?jì)x可以用于測量液晶顯示器、有機發(fā)光二極管等的薄膜厚度，以確保顯示效果和質(zhì)量。

中，反射式膜厚測量?jì)x可以用于測量光學(xué)鏡片、濾光片等的薄膜厚度，以確保光學(xué)性能和質(zhì)量。

中，反射式膜厚測量?jì)x可以用于測量太陽(yáng)能電池板上的薄膜厚度，如氮化硅、氧化鋁等，以確保太陽(yáng)能電池的效率和可靠性。

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